Fotorezistas yra polimerų ir kai kurių junginių mišinys, tarp kurių svarbiausias yra fotorūgščių generatorius (PAG). Kai fotonai patenka į PAG, susidaro rūgštis, kuri reaguoja su polimeru, suskaidydama jį ir paskatindama jį ištirpinti ryškalo.
Fotolitografinis fotorezistas paprastai skirstomas į du tipus: pozityvus fotorezistas ir neigiamas fotorezistas.
Teigiamas fotorezistas: eksponuojama dalis tirpsta ryškalo tirpale, o neeksponuota dalis netirpi ryškalo tirpale. Po ryškinimo likęs fotorezisto raštas ant pagrindo yra toks pat kaip tikslinis raštas ant kaukės plokštės.
Neigiamas fotorezistas: eksponuojama dalis netirpi ryškalo tirpale, o neeksponuota dalis tirpsta ryškalo tirpale. Po ryškinimo ant pagrindo likęs fotorezisto raštas papildo tikslinį raštą ant kaukės plokštės.
Todėl, naudojant teigiamą fotorezistą, ėsdinant pagrindą be apsaugos nuo fotorezisto po fotolitografijos ir galiausiai nuplaunant likusį fotorezistą, pasiekiamas vieno{0}}pakopinio puslaidininkinių įtaisų ant pagrindo paviršiaus konstravimo procesas.
